光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的部分变得容易溶解,经过显影后被溶解,只留下未受光照的部分形成图形;而负胶却恰恰相反,经过曝光后,受到光照的部分会变得不易溶解,经过显影后,留下光照部分形成图形。
一、光刻胶检测项目
成分分析,未知物分析,配方比检测,配方还原,配方改善,配方检测等。
二、光刻胶检测方法
1.将精制的聚乙烯醇放入吡啶中溶胀,滴加由肉桂酸与二氯亚砜反应制得的肉桂酰氯进行酯化反应。经洗涤、过滤、干燥后,与配胶组成中的其余组分混合,即得光刻胶成品。
2.由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
光刻胶检测流程
1、寄样
2、报价
3、签订保密协议
4、开始实验
5、结束实验
6、后期服务
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