湿电子化学品，又称超高纯试剂或工艺化学品，是指主题成分纯度大于99.99%，杂质离子和微粒数符合要求的化学试剂，是重要的晶圆制造材料之一。它作为“工业味精”处在上下产业链中间的微细加工制作过程中，主要功能是清洗和刻蚀，还可以用做光刻胶显影和去除，同时也是作为一种关键性的损耗品参与到产业链的上下游。
由于下游行业（半导体领域、光伏等领域）对工艺品控要求极高，对电子湿化学品的纯度、洁净度、精度等特性具有严苛的要求，一般要求控制杂质颗粒粒径低于0.5µm，金属杂质含量低于ppm级（10-6为ppm，10-9为ppb，10-12为ppt）。因此，与一般化学品不同，电子湿化学品具有高技术门槛、高附加值的特点。从湿电子化学品的角度来讲晶片的污染，主要有颗粒污染、薄膜污染、痕量分子或者原子污染。湿电子化学品溶液中的颗粒会吸附在晶圆表面，在膜层沉积时共生，成为掩埋缺陷如果颗粒尺寸超过器件***小特征尺寸的50%，就有导致器件失效的可能。溶液中的分子和离子粘附在晶圆片表面，在膜层中或在膜层内扩散很快，当它们由晶圆表面进入硅基材时，会导致器件性能降低。例如钠元素在二氧化硅中扩散快，氧化层中少量钠就会引起MOS场效应管开启电压的不稳定，也可能降低闸氧化层的击穿电压。因此湿电子化学品的质量监控尤为重要。
一、市场现状
原料：硫酸、盐酸、氢氟酸、氨水、氢氧化钠、氢氧化钾，丙酮、乙醇，异丙醇、氮甲基吡咯烷酮等。
应用：集成电路制造的清洗、刻蚀、掺杂、显影、晶圆表面处理、去膜、去光刻胶等工序中。
上游：
1）基础化工原料，酸，碱，有机物
2）设备：刻蚀设备，清晰设备、显影设备、检测与测试设备等
中游：
1、通用化学品：
（1）酸类：氢氟酸、硝酸、盐酸、磷酸、乙酸等
（2）碱类：氨水、氢氧化钠、氢氧化钾、四甲基氢氧化铵
（3）有机溶剂类：甲醇、乙醇、异丙醇、氮甲基吡咯烷酮等
2、功能性化学品：复配类：显影液、剥离液、清洗液、刻蚀液、稀释液等。
下游：太阳能电池、平板显示、半导体
终端领域：家电、电脑、智能终端、芯片，太阳能、照明
湿电子化学品的三个主要应用场景对产品的等级要求有所不同，太阳能电池对洁净度要求相对较低，仅需达到G1等级。显示面板领域一般要达到G2、G3等级。半导体领域，分立器领域等级要就G2.集成电路用超净高纯试剂的纯度要求***高，中低端领域（8寸及以下晶圆制程）要求达到G3、G4水平，部分高端领域（大硅片、12英寸晶圆制程）要求达到G5等级（10ppt）。
二、 优势及解决方案
电子级化学品应用于晶圆的清洗，光阻剂的移除中，若有杂质残留在晶圆表面，会影响晶片的良导率，尤其是先进制样（20nm以下）影响较大。电子湿化学品对洁净水的电导率、离子含量、TOC、DO和颗粒物有着特别严格的要求，常用的超纯水标准有国标GB/T 1146.1-2003和美标ASTM-D5127-13。另外，硼元素是半导体生产中的P型杂质，过量会使N型硅发生反转，从而影响电子和空穴的浓度，因此硼元素的监控就显得尤为重要。
常规分析纯化学试剂和工业级样品检测，元素及离子、TOC等测试检出限一般在ppm级别，因此此类测试方法无法满足湿电子化学品的需求。湿电子化学品相关测试，对相关环境、检出限要求较高，一般要做到ppb甚***ppt级别。现有测试能力ICP-MS根据样品体系的不同可以做到ppb或ppt级别，且可以开展电子级有机试剂阴阳离子测试，检出限可低***ppm~ppb。颗粒计数器测试可做到0.1-0.5um。湿电子化学品及相关材料的检测需求具体如下：
电子级试剂：
超纯水测试能力如下：
材料类体、表金属的测试：
湿电子化学品（硝酸、盐酸，氢氟酸、NMP、PMA、甲醇、间二甲苯等），超纯水，可通过ICP-MS（金属元素）、IC（阴阳离子）、TOC、色度、颗粒计数器等手段进行测试。检测精度可以达到ppb~ppt级别。硅基材料（硅料、硅片），碳化硅晶圆片、氮化镓、PE包装材料等样品的体、表金属元素及离子、TOC等相关测试，检测精度可以达到ppb~ppt级别。
三、微谱服务流程
我们可根据客户的需求提供专业、个性化的分析、检测等一站化服务，如您有相关的业务需求，欢迎来电咨询，电话拨打400-700-8005。
